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      超純水的介紹及制作工藝

      更新時間: 2022-08-09
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      電子級水是指電子和半導(dǎo)體工藝過程中所用的超純水。超純水是一類純度高的。幾乎不含電解質(zhì)、氣體、有機物和難離解膠體物的水,其電阻率不低于10MΩ/cm含鹽量低于0.02mg/L。超純水是電子行業(yè)中常用的術(shù)語,其他行業(yè),諸如太陽能光伏,制藥,發(fā)電以及研究實驗室等也被使用到。雖然每個行業(yè)都使用所謂的“超純水”,但質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)各不相同。即使在電子行業(yè)中,不同應(yīng)用諸如半導(dǎo)體、液晶面板及各種電子元器件對超純水的要求也各不相同。其中半導(dǎo)體中代表了“超純水”使用的最高等級。

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      表一:《GB-T 11446-2003》電子水等級

      水中雜質(zhì)可分為兩類:一是懸浮雜質(zhì),包含細(xì)菌、病毒、有機物、膠體等;二是溶解在水中的小分子和離子,包括溶解性氣體、鹽類及少量重金屬離子。

      超純水制備通常由預(yù)處理、脫鹽、后處理三大部分組成。半導(dǎo)體行業(yè)所使用的超純水(電阻率≥18MΩ/cm)通常采用“預(yù)處理(機械過濾)+二級RO +EDI裝置+拋光混床(MMF+ACF+二級RO +EDI+SMB)”的工藝。

      而EDI電去離子技術(shù)的應(yīng)用對前端來水TOC及SiO2等有嚴(yán)苛的要求,TOC要求控制在0.5*10-6mg/L以下,SiO2控制在0.4*10-6mg/L以下,安力斯UV-TOC系列產(chǎn)品使用185nm和254nm雙波段紫外燈,低耗高效去除水中TOC、SiO2游離氯、鐵等微量污染物。

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      圖一:二級RO+EDI超純水制備工藝

       

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