半導體超純水設備

 半導體超純水設備在半導體生產中主要用于清洗硅片。少量水用于配制藥劑、硅片氧化的蒸汽源、某些設備的冷卻水、電鍍溶液的配制。產品的質量與產量密切相關。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會降低PN結的耐壓力，III族元素 (B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，V族素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化。細菌高溫炭化水中的磷(約為灰分的20%~50%)會使p型硅片局部變為N型硅片，導致器件性能下降。水中的顆粒，包括細菌，如果附著在硅片表面，會導致短路或性能惡化。可見，超純水在半導體行業的必要性。

產品介紹：

Onyx的EX-UPW-TOC產品主要由高透185nm的紫外燈管，高輸出石英套管，內外電解拋光的一體化紫外反應器，高度精確的UV強度傳感器及智能自控系統組成。

185nmUV主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

電子級水UV-TOC控制系統

 半導體超純水設備產品規格：

集成電路超純水應用領域：

1. 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路板

2. 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

3. 電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

4. 黑白顯像管熒光屏的生產、波殼清洗、沉淀、洗膜、管頸清洗

5. 液晶顯示器的生產、屏面清洗

6. 集成電路生產中高純水清洗硅片

7. LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏的生產